氫脫氧純化裝置
介紹:
氫氣和少于2%氧含量的普氮混合后進入純化裝置除氧器,過量的氫和少量的氧在鈀觸媒催化劑的作用下充分反應生成水(2H2+O2=2H2O),殘余氧含量降到5ppm以下;脫氧后氮氣經冷卻器與冷干機的初步脫水后進入干燥器,內裝分子篩的干燥器配置兩臺,其中一臺進行吸附干燥,另一臺則通過高溫將已經吸附飽和的干燥器進行再生備用,最終氮氣常壓露點可低于-60℃;純化后的氣體經純氮罐后輸送至用氣點。
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常規參數
原料氣氧濃度:<2%
原料氣壓力:0.3MPa~0.7MPa
殘余物指標:
氧含量:≤1ppm
氫含量≤1000ppm(氫氣純化項目除外)
含塵粒徑:≤0.01μm
常壓露點:≤-60℃
工作原理
氫氣和少于2%氧含量的普氮混合后進入純化裝置除氧器,過量的氫和少量的氧在鈀觸媒催化劑的作用下充分反應生成水(2H2+O2=2H2O),殘余氧含量降到5ppm以下;
脫氧后氮氣經冷卻器與冷干機的初步脫水后進入干燥器,內裝分子篩的干燥器配置兩臺,其中一臺進行吸附干燥,另一臺則通過高溫將已經吸附飽和的干燥器進行再生備用,最終氮氣常壓露點可低于-60℃;
純化后的氣體經純氮罐后輸送至用氣點。
工藝流程
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氫氣與氮氣同時進入混合罐進行充分混合,使氮氣中的氧與氫充分接觸,在進入裝填鈀催化劑的除氧器后,氧氫充分反應生成水,從而將氧除去。裝置對除氧器的工作時設置低溫報警,低壓報警,并對最終的氮氣純度設置純度報警,從而對系統進行安全有效的監控。
適用范圍
特別適用于氮、氫氣氛熱處理行業,即需要高純氮氣和允許適量的氫,能使產品更光亮。
選型說明
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